影响膜层质量的工艺要素

真空镀制光学薄膜的基本工艺过程是清洁零件、清洁真空室/装零件、抽真空和零件加温、膜厚仪调整、离子束轰击、膜料预熔、镀膜、镀后处理、检测。 上述工艺流程中每一步骤的完成质量，都会影响到膜层的质量。

光学薄膜器件的制造是在真空室内进行的，同时膜层的生长又是一个微观过程，而我们目前能够直接控制的却是一些与膜层质量有间接关系的宏观因素的宏观过程。

即便如此，人们还是通过长期坚持不懈的试验研究，找到了膜层质量与这些宏观因素之间的规律性关系，成为指导薄膜器件制造的工艺规范，对于制造质量优良的光学薄膜器件发挥着重要的作用。