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IC光刻设备、FPD曝光设备中用到的光学元件

456 次浏览 时间:2023-11-29

在IC半导体光刻设备和FPD平面显示器曝光设备中,对精密光学薄膜器件有着极为苛刻的要求,尤其是对光学镜面精度、光谱反射效率和耐用性等方面。这些要求主要是为了确保设备在长时间不间断工作的情况下,能够保持高性能、高精度的光学表现。

欧特光学制造的精密紫外光学薄膜器件主要包括:

大尺寸椭球反射镜

作用: 用于调整和聚焦光线,确保在光刻设备中得到的曝光。

要求: 对光学镜面精度和耐用性有极高的要求,以保持曝光的准确性。

45°平面反射镜

作用: 用于反射光线的方向,确保光线能够准确照射到目标区域。

要求: 对反射效率和光谱性能有严格的要求,以确保光学系统的稳定性。

介质膜反射镜

作用: 用于调整和分散光线,以满足设备对光学性能的特殊需求。

要求: 需要高精度的光学表面和卓越的耐用性。

铝增强反射镜

作用: 提供高反射效率,用于优化光学系统的性能。

要求: 对反射效率和耐久性有严格要求,特别是在长时间紫外线辐射下的稳定性。

365nm通带滤光片、截止滤光片、分色镜

作用: 用于优化光源的波长分布,满足特定的曝光需求。

要求: 对光谱性能和耐久性有极高的要求,特别是在紫外线条件下的长时间使用。

这些精密紫外光学薄膜器件的制造采用高能离子辅助沉积工艺,以确保其耐受高温(400℃以上)且性能稳定。这些器件在光学系统中的应用有助于确保设备的高性能和长期稳定运行。

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