锗是一种化学元素，符号为 Ge，原子序数为 32。它是碳族中一种有光泽、硬脆、灰白色准金属，在化学上与它的邻族硅和锡相似。纯锗是一种半导体，外观与单质硅相似。
锗和光学
氧化锗 (GeO2) 的显着特性是其高折射率和低光学色散。这些使得它特别适用于广角相机红外镜头、显微镜和光纤的核心部分。它已经取代二氧化钛作为二氧化硅光纤的掺杂剂，消除了使光纤变脆的后续热处理。到 2002 年底，光纤行业消耗了美国每年锗用量的 60%，但这还不到全球消耗量的 10%。GeSbTe 是一种相变材料，因其光学特性而被使用，例如用于可重写 DVD 的材料。
因为锗在红外波长中是透明的，所以它是一种重要的红外光学材料，可以很容易地切割和抛光成透镜和窗户。它特别用作在 8 至 14 微米范围内工作的热成像相机的前光学元件，用于被动热成像以及军事、移动夜视和消防应用中的热点检测。用于红外分光镜和其他需要极其灵敏的红外探测器的光学设备。它具有非常高的折射率（4.0），必须涂有增透剂。特别是，一种非常坚硬的类金刚石碳 (DLC) 特殊抗反射涂层，折射率为 2.0，是一种很好的匹配，并产生可以承受大量环境破坏的金刚石般坚硬的表面。
锗窗/GE 晶圆
锗窗具有三种抗反射涂层选项，3 - 5μm 用于中红外应用，3 - 12μm 用于宽带多光谱应用，8 - 12μm 用于热成像应用。
由于其高折射率，建议在这些 GE 窗口上使用抗反射涂层以实现足够的传输。锗容易发生热失控，这意味着传输会随着温度升高而降低。因此，这些锗窗口应在低于 100°C 的温度下使用。在设计对重量敏感的系统时，应考虑高密度 (5.33 g/cm 3 ) 的锗。锗 (780) 的努氏硬度大约是氟化镁的两倍，使其成为需要坚固光学元件的红外应用的理想选择。
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